鑽石碟

CMP Diamond Disk

均勻鑽石突出高度與高相容性設計，兼顧修整效率與拋光墊壽命。

產品特點

Product Features
  • 勻可控的鑽石突出高度
  • 擴大與拋光墊接觸面積，提升表面均勻性
  • 最佳化切削速率，延長拋光墊壽命
  • 相容多種漿料與拋光墊材

製程應用

Process Applications

CMP 拋光墊修整與維護
先進製程節點良率穩定化

建議規格

Recommended Specifications
  • 鑽石粒徑：依製程要求客製
  • 基材：金屬／樹脂
  • 尺寸：相容主流設備